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100

91

Dry-etching properties of TiN for metal/high- gate stack using -based inductively coupled plasma
엄두승, 김창일
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, 2009

92

Etch Characteristics of ZrO2 Thin Films in High Density Plasma
엄두승, 김창일
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS, 2009

93

Dry etching of CoFe films using a CH4 /Ar inductively coupled plasma for magnetic random access memory application
엄두승, 김창일
Journal of Vacuum Science and Technology A, 2009

94

Dry Etching of TaN Thin Films by Using an Inductively Coupled Plasma
엄두승, 김창일
FERROELECTRICS, 2009

95

Crossover from weak anti-localization to weak localization in inkjet-printed Ti3C2Tx MXene thin-film
엄두승, 진미진, J. W. A. Robinson, Osarenkhoe Ogbeide, 김창일, 유정우
Advances in Nano Research, 2022

96

유도 결합 플라즈마를 이용한 TaN 박막의 건식 식각 특성 연구
엄두승, 김창일
한국표면공학회지, 2009

97

시각 생체 모방 기술
엄두승
한국정밀공학회지, 2009

98

Metal 게이트 전극을 위한 TiN 박막의 건식 식각 특성
엄두승, 김창일
한국표면공학회지, 2009

99

Surface Reaction of TaN Metal Gate Etching by Using an Inductively Coupled Plasma
엄두승, 김창일
JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY, 2009

100

유도 결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성
엄두승, 김창일
한국표면공학회지, 2008