발행물
컨퍼런스
2007년도 추계 한국전기전자재료 학회
2007
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NO GAS 후속 열처리를 통한 HF-SILICATE에 대한 연구
금속 게이트 전극으로의 활용을 위한 이중 금속층의 전기적 특성 연구
고집적 소자에의 적용을 위한 NI-ZR 실리사이드 공정 연구
211TH ECS MEETING
THE STUDY OF HAFNIUM SILICATE BY NO GAS ANNEALING TREATMENT
MRS 2006 SPRING
2006
A STUDY OF CRYSTALLIZATION CHARACTERISTICS ON N-DOPED GE2SB2TE5 THIN FILMS FOR PHASE CHANGE MEMORY DEVICES