[한국나노기술원위탁]화합물반도체 기반 센서를 위한 물질의 미세구조 및 응력 변화 분석(3/3,1단계)(2015.10.1~2020.6.30)

한국연구재단

2017년 07월 - 2018년 04월

III-V hetero epitaxy 공정기술(5/5)

한국반도체연구조합

2017년 06월 - 2018년 05월

[RCMS]III-V CHANNEL을 이용한 CMOS EXTENSION 기술 개발(5/5)

한국산업기술평가관리원

2017년 06월 - 2018년 05월

GAA 소자향 CVD SiGe/Ge 채널 형성 및 유전막 소재/공정 개발(2/6)

한국반도체연구조합

2017년 - 2017년 12월

[RCMS]성균관대학교산학/5nm급 이하 체세대 Logic 소자 원천요소기술개발(2/6)

한국산업기술평가관리원

2017년 - 2017년 12월

GAA 소자향 CVD SiGe/Ge 채널 형성 및 유전막 소재/공정 개발

한국반도체연구조합

2016년 10월 - 2017년 12월

[RCMS]성균관대학교산학/5nm급 이하 체세대 Logic 소자 원천요소기술개발(1/6)

한국산업기술평가관리원

2016년 10월 - 2016년 12월

[RCMS}(주)뉴파워프라즈마/셀효율 15%이상의 실리콘 코팅 Carbon fiber 전자소재 개발(5/7)

한국산업기술평가관리원

2016년 09월 - 2017년 08월

화합물반도체 기반 센서를 위한 물질의 미세구조 및 응력 변화 분석

한국연구재단

2016년 07월 - 2017년 06월

III-V hetero epitaxy 공정기술

한국반도체연구조합

2016년 06월 - 2017년 05월