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원자층 증착법으로 형성한 2차전지용 금속 전극을 위한

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ICP-type remote plasma-enhanced atomic layer deposition을 이용한 저온 SiON 박막증착공정

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원차층 증착법 : 반도체 공정 그 이후

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Plasma-enhanced atomic-layer-deposited SiON thin film at low temperature ? 300 oC using ICP type remote plasma for 3-dimensional electronic devices

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Atomic-layer-deposited LiAlO thin film protective layer for Li metal electrode in Li-ion secondary batteries