2025

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Electronic Threshold Switching of As-SiO2 Selector: Charged Oxygen Vacancy Model

1970

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고등 ALD 공정 및 전자소자 응용 사례

1970

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몰리브덴 소재 기반의 ALD 박막 공정

1970

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지속가능한 미래를 위한 D램 기술의 혁신 주도(Driving Innovation in DRAM Technology: Towards a Sustainable Future)

2025.06

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VG와 웨이퍼 본딩 기술을 적용해 D램의 전기적 특성을 확인한 최신 연구 결과