51
고속 IEDF측정 알고리즘 개발및 공정 모니터링 Parameter 도출 연구
과학기술부
2006년 09월 - 2007년 08월
52
65mm급 300mm Oxide Etcher 장비개발
산업자원부
2006년 08월 - 2007년 07월
53
반도체 식각 공정용 강자성체 활용의 ICP 소스 개발
산업자원부
2006년 06월 - 2007년 05월
54
차세대 공정용 페라이트 유도 결합 플라즈마 개발 및 특성 연구
교육인적자원부
2005년 12월 - 2006년 11월
55
식각 증착 플라즈마 공정용 Compact형 전자온도 이온밀도 모니터링 게이지
산업자원부
2005년 11월 - 2006년 09월
56
고속 IEDF 측정 알고리즘 개발 및 공정 모니터링 Parameter 도출 연구
과학기술부
2005년 09월 - 2006년 08월
57
뉴파워 Dry Light Etch 장비에서의 플라즈마 물성 분석연구
과학기술부
2005년 09월 - 2006년 08월
58
반도체 식각공정용 강자성체 활용의 ICP소스개발
산업자원부
2005년 06월 - 2006년 05월
59
한빛플라즈마에서 전자에너지 분포 함수 측정을 통한 가열 메커니즘 연구
기타정부부처
2005년 - 2005년 11월
60
공정 플라즈마 전자온도 모니터링 기술 개발
과학기술부
2004년 11월 - 2005년 09월