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Etch Characteristics of Magnetic Tunnel Junction Stacks in a High Density Plasma Using Chlorine-based gases

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Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Titanium Nitride Thin Films in a Cl2/Ar Plasma

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HBr/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막에 대한 식각 특성

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Radio Frequency Magnetron Sputtering 방법을 이용하여 증착된 Zinc Oxide 박막의 광학적 특성과 전기적 특성

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Radio Frequenty Reactive Magnetron Sputtering 방법으로 증착된 ITO 박막에 대한 산소 농도의 영향