METHOD FOR ETCHING ATOMIC LAYER

기판 처리 방법 및 장치

ETCHING APPARATUS AND ETCHING METHOD USING THE SAME

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원자층 식각 방법

식각 장치 및 이를 이용한 식각 방법

비대칭 면적을 가지는 이중 프로브를 포함하는 플라즈마 상태 변수 특정 방법, 비대칭 면적을 가지는 이중 프로브를 포함하는 플라즈마 상태 변수 특정 장치 및 이를 포함하는 플라즈마 발생 장치

플라즈마 공정 모니터링 방법 및 플라즈마 공정 모니터링 장치

플라즈마의 발생 효율을 증가시키는 용량 결합형 플라즈마 발생 장치 및 유도 결합형 플라즈마 발생 장치

원자층 식각 장치 및 방법