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Double probe using an ac bias signal for plasma parameters measurement

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Measurement of the electron energy distribution in magnetized solenoidal inductively coupled plasma

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충돌주파수가 고주파 수평행평판플라즈마의 전기장 균일도에 미치는 영향 연구

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광방사 세기비를 이용한 공정플라즈마의 변수 진단

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Real time dose monitoring system by sensing implanter current and biased pulse voltage in plasma source ion implantation