발행물
컨퍼런스
2025 한국세라믹학회 춘계학술대회
2025
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DRAM capacitor의 특성 개선을 위한 요소공정 기술 소개
Effect of Al doping on structural and electrical properties of HfO2/ZrO2 layered structures for high-k applications
Analysis of electrical properties of ZrO2 thin films depending on deposition temperature using a noble precursor
신규 Mo 전구체를 이용한 ALD 증착 MoO2와 DRAM capacitor용 고유전율 rutile-TiO2 증착 연구
Effects of Al Doping Position in Rutile TiO2 Thin Films Deposited via Atomic Layer Deposition