발행물
컨퍼런스
ISTC
2001
,
THE ELECTRICAL CHARICTERISTICS OF W/WNX/POLY SI1-XGEX AND THE MOSCAP STRUCTURES WITH W/WNX/POLY SI1-
OPTIMIZATION OF SPUTTERED ZRO2 THIN FILMS FOR ALTERNATIVE GATE DIELECTRIC
2001년도 춘계 학술연구발표회
HFO2 FOR HIGH -K DIELECTRIC MATERIALS
열처리에 따른 ZRO2 게이트 유전막과 전극의 계면 특성 연구
MAT. RES. SOC. SYMP. PROC
A STUDY ON THE PHYSICAL AND ELECTRICAL PROPERTY OF POLY SI1-XGEX GATE STRUCTURES FOR CMOS TECHNOLOGY