발행물
컨퍼런스
ELECTROCHEMICAL SOCIETY PROCEEDING
2001
,
A STUDY ON THE SOLID PHASE REACTION AND THERMAL STAILITY IN THE NI-SI1-XGEX SYSTEM USING RAPID THERMAL ANNEALING(RTA) PROCESS
제 20회 한국 진공학회
증착 방법에 따른 HFO2 게이트 유전막의 특성
증착 방법에 따른 극미세 DLC 필름의 탄성률 측정
후속 열처리에 따른 W/WNX/POLY SI1-XGEX의 계면 반응 및 W/WNX/POLY SI1-XGEX MOS CAPACITOR 구조의 전기적 특성 분석
CO1-X-TAX/SI 시스템에서의 실리사이드 형성 반응 연구