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Atomic layer deposition : beyond semiconductor process Prospective applications aiming mass-production

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웨이퍼 스케일 단분자층 MoS2 성장을 위한 개선된 원자층 증착 공정

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전기화학적 H2 생산을 위한 원자층 증착법으로 성장시킨 MoSx가 적용된 Black Si 광전극

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신규 Si 전구체를 이용한 고성장률 SiON PEALD공정

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Discrete feeding method 와 electric field assisted ALD를 이용한 ruthenium 극박막 증착