발행물
컨퍼런스
220th ElectroChemical Society Meeting
2011
,
Nano Gas Cluster Dry Cleaning for Damage Free Particle Removal
16th International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization
An Effective Cleaning Composition for the Defects Removal during Post Cu CMP Process
2011년도 한국재료학회 춘계학술발표 및 제 20회 신소재 심포지엄
친환경 평판 디스플레이 세정을 위한 CO2 snow jet 세정공정 개발에 관한 연구
The evaluation of ceria sllurry for black mask polishing for Photo-lithopraphy
유기물 제거를 위한 Post Cu CMP 세정 용액 개발