발행물
컨퍼런스
2011년도 한국재료학회 춘계학술발표 및 제 20회 신소재 심포지엄
2011
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Post Ru CMP Cleaning for Alumina Particle Removal
Fabrication of Silicon Nanotemplate for Polymer Nanolens Array
CMP 컨디셔닝 공정에서의 부식방지를 위한 자기조립 단분자막의 적용과 표면특성 평가
The 48th Thchnical Meeting of Korea CMPUGM
Formulation of TMAH based solution for post-Cu CMP cleaning
6th Levitronix CMP and ultrapure conference
Effect of pumping methods on wafer cleaning