발행물
컨퍼런스
2002 한국재료학회 추계 학술발표
2002
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Laser 충격파를 이용한 실리콘 웨이퍼 표면에서의 미세 오염입자 제거
불화유기박막에 의한 마이크로몰드의 표면개질
CMP 공정 중 세라믹 컨디셔너의 물리적, 화학적 특성평가
2002 CMP user's group annual symposium proceedings
The removal of micro and nanoscale particulate defects
2002 한국재료학회 춘계 학술발표
CMP 공정 중 polishing performance 향상을 위한 세라믹 컨디셔너의 개발과 특성평가